Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates

Lehdistö/media

Aikajakso	6 syysk. 2018

Käsittely mediassa

Nimi	Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates
Medianimi / kanava	ECS Journal of Solid State Science and Technology
Maa/Alue	Yhdysvallat (USA)
Julkaisupäivämäärä	06/09/2018
URL-osoite	jss.ecsdl.org/cgi/content/short/7/9/P501?rss=1
Henkilöt	Mikko Ritala, Markku Leskelä, Marianna Kemell