Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Hakutulokset
-
2021
Atomic Layer Deposition of 2D Metal Dichalcogenides for Electronics, Catalysis, Energy Storage, and Beyond
Mattinen, M., Leskelä, M. & Ritala, M., maalisk. 2021, julkaisussa: Advanced Materials Interfaces . 8, 6, 47 Sivumäärä, 2001677.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
2014
Atomic Layer Deposition of Noble Metals and Their Oxides
Hämäläinen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 2014, julkaisussa: Chemistry of Materials. 26, 1, s. 786-801 16 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu
-
2004
Some recent developments in the MOCVD and ALD of high-kappa dielectric oxides
Jones, A. C., Aspinall, H. C., Chalker, P. R., Potter, R. J., Kukli, K., Rahtu, A., Ritala, M. & Leskelä, M., 2004, julkaisussa: Journal of Materials Chemistry. 14, s. 3101-3112 12 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu
-
2002
Atomic layer deposition (ALD): from precursors to thin film structures
Leskelä, M. & Ritala, M., 2002, julkaisussa: Thin Solid Films. 409, 1, s. 138-146 9 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu
-
1999
ALD precursor chemistry: Evolution and future challenges
Leskelä, M. & Ritala, M., 1999, julkaisussa: Journal de physique. IV. 9, s. 837-852 16 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu