Projekteja vuodessa
Yhteistyöt ja huippututkimusalueet viimeisiltä viideltä vuodelta
Viimeisin maa-/aluetasolla toteutettu yhteistyö. Saat tarkempia lisätietoja pisteitä napauttamalla, tai
Profiilit
-
Marianna Kemell
- Kemian osasto - vanhempi yliopistonlehtori, dosentuuri
- Doctoral Programme in Materials Research and Nanosciences - Ohjaaja tohtoriohjelmassa
- HelsinkiALD
Henkilö: U3 Opetus- ja tutkimushenkilöstö
-
Markku Leskelä
- Kemian osasto - Prof. emer.
- Doctoral Programme in Materials Research and Nanosciences - Ohjaaja tohtoriohjelmassa
- HelsinkiALD
Henkilö
-
Matti Putkonen
- Kemian osasto - professori
- Doctoral Programme in Materials Research and Nanosciences - Ohjaaja tohtoriohjelmassa
- HelsinkiALD
Henkilö: U4 Opetus- ja tutkimushenkilöstö
-
JAES-1/2024-12/2027-Putkonen
Putkonen, M. (Projektinjohtaja), Anto, A. (osallistuja), Chundak, M. (osallistuja) & Ganzhinov, A. (osallistuja)
01/01/2024 → 31/12/2027
Projekti: Rahastot ja säätiöt
-
Intel-Ritala 2023-2026
Ritala, M. (Projektinjohtaja), Deb, A. (osallistuja), Huggare, R. (osallistuja), Keränen, L. (osallistuja) & Vehkamäki, M. (osallistuja)
01/09/2023 → 31/12/2026
Projekti: Yritysrahoitus
-
-
LEIS-infrastruktuuri BF&HY 2023-2024
Ritala, M. (Projektinjohtaja)
01/01/2023 → 31/12/2024
Projekti: Business Finland
-
Atomic Layer Deposition as key enabler of scalable and stable perovskite solar cells
Kemell, M. (Projektinjohtaja), Popov, G. (osallistuja), Weiss, A. (osallistuja), Popov, G. (Osallistuja) & Weiss, A. (Osallistuja)
SUOMEN AKATEMIA Vähäkylä Leena
01/09/2020 → 31/08/2024
Projekti: Suomen Akatemia: Akatemiahanke
-
Atomic layer deposition enabled hydrophilic treatment of PTFE separators for intermediate temperature alkaline water electrolysis
Zahra, R., Ruuskanen, V., Chatzichristodoulou, C., Jensen, J. O., Putkonen, M., Kannan, A. M. & Kauranen, P., 1 maalisk. 2026, julkaisussa: Chemical Engineering Science. 322, 10 Sivumäärä, 123145.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Area selective atomic layer deposition of ruthenium with phenol as a small molecule inhibitor
Ismaeel, S., Chundak, M. & Ritala, M., jouluk. 2025, julkaisussa: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 43, 6, 9 Sivumäärä, 062407.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Atomic layer deposition
Kessels, E., Devi, A., Park, J.-S., Ritala, M., Yanguas-Gil, A. & Wiemer, C., jouluk. 2025, julkaisussa: Nature Reviews Methods Primers. 5, 1, 25 Sivumäärä, 66.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Katsausartikkeli › vertaisarvioitu
-
Atomic Layer Deposition of AgX (X = Cl, Br, I) Thin Films
Heidari, A., Popov, G., Hatanpää, T., Weiß, A., Chundak, M., Mizohata, K., Ritala, M. & Kemell, M., 25 marrask. 2025, julkaisussa: ACS Omega. 10, 46, s. 55682-55691 10 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Atomic layer deposition of crystalline molybdenum trioxide and suboxide thin films using molybdenum(II) acetate dimer precursor
Ganzhinov, A., Mattinen, M., Mizohata, K., Chundak, M., Hatanpaa, T., Ritala, M. & Putkonen, M., maalisk. 2025, julkaisussa: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 43, 2, 9 Sivumäärä, 022403.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto
Aktiviteetit
-
Chair of a grading committee for a PhD Thesis dissertation
Kemell, M. (Muu rooli (kuvaile kentässä "Roolin kuvaus ja lisätiedot"))
2025 → …Aktiviteetti: Tutkimustyypit › Väitöskirjatyön seurantaryhmän jäsen
-
Mikko Ritala: Mikroelektroniikan materiaalit tehdään atomikerros kerrallaan
Styrman, A. (Järjestäjätoimikunnan puheenjohtaja) & Ritala, M. (Puhuja: esitelmän pitäjä)
16 syysk. 2025Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
-
AVS 25th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2025) featuring the 12th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2025)
Ritala, M. (Tieteellisen komitean jäsen)
22 kesäk. 2025 → 25 kesäk. 2025Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
-
The 20th KAST-SIEST(SKKU) InterAcademy Workshop
Kemell, M. (Puhuja: esitelmän pitäjä)
14 heinäk. 2025 → 15 heinäk. 2025Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
-
Symposium on Future Materials
Kemell, M. (Puhuja: esitelmän pitäjä)
28 huhtik. 2025 → 29 huhtik. 2025Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen