Heta Nieminen

Puhelin+358504485722, +358294150226
Sähköpostiheta-elisa.nieminenhelsinkifi

PL 55 (A. I. Virtasen aukio 1)
00014
Suomi

Tutkimustuotoksia vuodessa

Jos olet muokannut tietoja Puressa, ne näkyvät pian tässä.

Tieteenalat

116 Kemia

7 Artikkeli

Reductive Thermal Atomic Layer Deposition Process for Gold
Vihervaara, A., Hatanpää, T., Nieminen, H., Mizohata, K., Chundak, M. & Ritala, M., 11 tammik. 2023, julkaisussa: ACS materials Au.
Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
Ambient pressure x-ray photoelectron spectroscopy setup for synchrotron-based in situ and operando atomic layer deposition research
Kokkonen, E., Kaipio, M., Nieminen, H. -E., Rehman, F., Miikkulainen, V., Putkonen, M., Ritala, M., Huotari, S., Schnadt, J. & Urpelainen, S., 1 tammik. 2022, julkaisussa: Review of Scientific Instruments. 93, 1, 13 Sivumäärä, 013905.
Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
Reaction mechanism studies on atomic layer deposition process of AlF₃
Nieminen, H. & Ritala, M., maalisk. 2022, julkaisussa: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 40, 2, 5 Sivumäärä, 022401.
Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Tiedosto
Synchronizing gas injections and time-resolved data acquisition for perturbation-enhanced APXPS experiments
Redekop, E. A., Johansson, N., Kokkonen, E., Urpelainen, S., da Silva, F. L., Kaipio, M., Nieminen, H-E., Rehman, F., Miikkulainen, V., Ritala, M. & Olsbye, U., 1 huhtik. 2021, julkaisussa: Review of Scientific Instruments. 92, 4, 11 Sivumäärä, 044101.
Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
In situ reaction mechanism study on atomic layer deposition of intermetallic Co₃Sn₂ thin films
Nieminen, H-E., Kaipio, M. & Ritala, M., 13 lokak. 2020, julkaisussa: Chemistry of Materials. 32, 19, s. 8120-8128 9 Sivumäärä
Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

1 Suullinen esitys

In vacuo cluster tool for studying the reaction mechanisms in ALD and ALE processes
Heta Nieminen (Puhuja)
28 kesäk. 2022
Aktiviteetti: Puhe- tai esitystyypit › Suullinen esitys

Heta Nieminen

Henkilökohtainen profiili

Tieteenalat

Kansainvälinen ja kotimainen yhteistyö

Sukella yksityiskohtiin

Reductive Thermal Atomic Layer Deposition Process for Gold

Ambient pressure x-ray photoelectron spectroscopy setup for synchrotron-based in situ and operando atomic layer deposition research

Reaction mechanism studies on atomic layer deposition process of AlF₃

Synchronizing gas injections and time-resolved data acquisition for perturbation-enhanced APXPS experiments

In situ reaction mechanism study on atomic layer deposition of intermetallic Co₃Sn₂ thin films

In vacuo cluster tool for studying the reaction mechanisms in ALD and ALE processes

Heta Nieminen

Henkilökohtainen profiili

Tieteenalat

Kansainvälinen ja kotimainen yhteistyö

Julkaisut

Reductive Thermal Atomic Layer Deposition Process for Gold

Ambient pressure x-ray photoelectron spectroscopy setup for synchrotron-based in situ and operando atomic layer deposition research

Reaction mechanism studies on atomic layer deposition process of AlF3

Synchronizing gas injections and time-resolved data acquisition for perturbation-enhanced APXPS experiments

In situ reaction mechanism study on atomic layer deposition of intermetallic Co3Sn2 thin films

Aktiviteetit

In vacuo cluster tool for studying the reaction mechanisms in ALD and ALE processes

Reaction mechanism studies on atomic layer deposition process of AlF₃

In situ reaction mechanism study on atomic layer deposition of intermetallic Co₃Sn₂ thin films