Jos olet muokannut tietoja Puressa, ne näkyvät pian tässä.

Julkaisut 1994 2020

Suodatin
Artikkeli
2020

Van der Waals epitaxy of continuous thin films of 2D materials using atomic layer deposition in low temperature and low vacuum conditions

Mattinen, M., King, P. J., Popov, G., Hämäläinen, J., Heikkilä, M. J., Leskelä, M. & Ritala, M., tammikuuta 2020, julkaisussa : 2D Materials. 7, 1, 8 Sivumäärä, 011003.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

2019

Atomic layer deposition of cobalt(II) oxide thin films from Co(BTSA)(2)(THF) and H2O

Iivonen, T., Kaipio, M., Hatanpää, T., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Kim, J., Ritala, M. & Leskelä, M., tammikuuta 2019, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 37, 1, 12 Sivumäärä, 010908.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Emerging 2D Semiconductors, HfS2 and ZrS2, for Optoelectronics

Mattinen, M., Popov, G., Vehkamäki, M., King, P. J., Mizohata, K., Jalkanen, P., Räisänen, J., Leskelä, M. & Ritala, M., 13 elokuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 15, s. 5713-5724 12 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskela, M., helmikuuta 2019, julkaisussa : Advanced Materials Interfaces . 6, 3, 7 Sivumäärä, 1801291.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of Nickel Nitride Thin Films using NiCl2(TMPDA) and Tert‐Butylhydrazine as Precursors

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Räisänen, J., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., kesäkuuta 2019, julkaisussa : Physica Status Solidi. A: Applications and Materials Science. 216, 11, s. 1900058 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of PbI₂ Thin Films

Popov, G., Mattinen, M. J., Hatanpää, T., Vehkamäki, M., Kemell, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 12 helmikuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 3, s. 1101–1109 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Photoconductive Cu2O Thin Films

Iivonen, T., Heikkilä, M. J., Popov, G., Nieminen, H-E., Kaipio, M., Kemell, M., Mattinen, M., Meinander, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., kesäkuuta 2019, julkaisussa : ACS Omega. 4, 6, s. 11205-11214 10 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Charge carrier dynamics in tantalum oxide overlayered and tantalum doped hematite photoanodes

Ruoko, T-P., Hiltunen, A., Iivonen, T., Ulkuniemi, R., Lahtonen, K., Ali-Löytty, H., Mizohata, K., Valden, M., Leskelä, M. & Tkachenko, N. V., 21 helmikuuta 2019, julkaisussa : Journal of Materials Chemistry. A. 7, 7, s. 3206-3215 10 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
Open access
Tiedosto

Controlling Atomic Layer Deposition of 2D Semiconductor SnS2 by the Choice of Substrate

Mattinen, M., King, P., Brüner, P., Leskelä, M. & Ritala, M., 23 lokakuuta 2019, (Valmisteltavana) julkaisussa : Advanced Materials Interfaces .

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Controlling the refractive index and third-order nonlinearity of polyimide/Ta2O5 nanolaminates for optical applications

Färm, E., Mehravar, S., Kieu, K., Peyghambarian, N., Ritala, M., Leskelä, M. & Kemell, M., 11 marraskuuta 2019, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 37, 6, 5 Sivumäärä, 060908.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Crystalline tungsten sulfide thin films by atomic layer deposition and mild annealing

Mattinen, M., Hatanpää, T., King, P. J., Meinander, K., Mizohata, K., Jalkanen, P., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., maaliskuuta 2019, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 37, 2, 9 Sivumäärä, 020921.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

How insignificant modifications of photocatalysts can significantly change their photocatalytic activity

Trochowski, M., Kobielusz, M., Mroz, K., Surowka, M. K., Hämäläinen, J., Iivonen, T., Leskelä, M. & Macyk, W., 21 marraskuuta 2019, julkaisussa : Journal of Materials Chemistry. A. 7, 43, s. 25142-25154 13 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Nickel Germanide Thin Films by Atomic Layer Deposition

Väyrynen, K., Vihervaara, A., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Raisanen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 23 heinäkuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 14, s. 5314-5319 6 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Reversely toposelective vapor deposition at normal pressure and temperature by capillary condensation

Lovikka, V. A., Kemell, M., Vehkamäki, M. & Leskelä, M., 1 heinäkuuta 2019, julkaisussa : Materials Horizons. 6, 6, s. 1230-1237 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Titania Nanotubes/Hydroxyapatite Nanocomposites Produced with the Use of the Atomic Layer Deposition Technique: Estimation of Bioactivity and Nanomechanical Properties

Radtke, A., Ehlert, M., Jcdrzejewski, T., Sadowska, B., Wieckowska-Szakiel, M., Holopainen, J., Ritala, M., Leskelä, M., Bartmanski, M., Szkodo, M. & Piszczek, P., tammikuuta 2019, julkaisussa : Nanomaterials. 9, 1, 21 Sivumäärä, 123.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Toward epitaxial ternary oxide multilayer device stacks by atomic layer deposition

King, P. J., Vehkamäki, M., Mattinen, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Noh, W., Leskelä, M. & Ritala, M., maaliskuuta 2019, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 37, 2, 4 Sivumäärä, 020602.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto
2018

Atomic Layer Deposition and Performance of ZrO2-Al2O3 Thin Films

Kukli, K., Kemell, M., Castan, H., Duenas, S., Seemen, H., Rähn, M., Link, J., Stern, R., Heikkilä, M. J., Ritala, M. & Leskelä, M., 2018, julkaisussa : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 7, 5, s. P287-P294 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates

Kukli, K., Kemell, M., Castan, H., Duenas, S., Seemen, H., Rähn, M., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., 6 syyskuuta 2018, julkaisussa : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 7, 9, s. P501-P508 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic layer deposition of crystalline molybdenum oxide thin films and phase control by post-deposition annealing

Mattinen, M., King, P. J., Khriachtchev, L., Heikkilä, M. J., Fleming, B., Rushworth, S., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., syyskuuta 2018, julkaisussa : Materials today chemistry. 9, s. 17-27 11 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic layer deposition of lanthanum oxide with heteroleptic cyclopentadienyl-amidinate lanthanum precursor - Effect of the oxygen source on the film growth and properties

Seppälä, S., Niinistö, J., Mattinen, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Noh, W., Ritala, M. & Leskelä, M., 30 elokuuta 2018, julkaisussa : Thin Solid Films. 660, s. 199-206 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Molybdenum and Tungsten Oxide Thin Films Using Heteroleptic Imido-Amidinato Precursors: Process Development, Film Characterization, and Gas Sensing Properties

Mattinen, M., Wree, J-L., Stegmann, N., Ciftyurek, E., El Achhab, M., King, P. J., Mizohata, K., Räisänen, J., Schierbaum, K. D., Devi, A., Ritala, M. & Leskelä, M., 11 joulukuuta 2018, julkaisussa : Chemistry of Materials. 30, 23, s. 8690-8701 12 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Rhenium Disulfide

Hämäläinen, J., Mattinen, M., Mizohata, K., Meinander, K., Vehkamäki, M., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 13 kesäkuuta 2018, julkaisussa : Advanced Materials. 30, 24, s. 1703622 6 Sivumäärä, 1703622.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of Zirconium Dioxide from Zirconium Tetraiodide and Ozone

Kukli, K., Kemell, M., Mizohata, K., Vehkamäki, M., Kalam, K., Castan, H., Duenas, S., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., 2018, julkaisussa : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 7, 2, s. P1-P8 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Design aspects of all atomic layer deposited TiO2–Fe2O3 scaffold-absorber photoanodes for water splitting

Hiltunen, A., Ruoko, T-P., Iivonen, T., Lahtonen, K., Ali-Löytty, H., Sarlin, E., Valden, M., Leskelä, M. & Tkachenko, N., 1 syyskuuta 2018, julkaisussa : Sustainable Energy & Fuels. 2, 9, s. 2124-2130 7 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Diamine Adduct of Cobalt(II) Chloride as a Precursor for Atomic Layer Deposition of Stoichiometric Cobalt(II) Oxide and Reduction Thereof to Cobalt Metal Thin Films

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 22 toukokuuta 2018, julkaisussa : Chemistry of Materials. 30, 10, s. 3499-3507 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Low-Temperature Wafer-Scale Deposition of Continuous 2D SnS2 Films

Mattinen, M., King, P. J., Khriachtchev, L., Meinander, K., Gibbon, J. T., Dhanak, V. R., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 24 toukokuuta 2018, julkaisussa : Small. 14, 21, 8 Sivumäärä, 1800547.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Metal oxide multilayer hard mask system for 3D nanofabrication

Han, Z., Vehkamäki, M., Salmi, E., Leskelä, M. & Ritala, M., 2 helmikuuta 2018, julkaisussa : Nanotechnology. 29, 5, 8 Sivumäärä, 055301.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Patterned films by atomic layer deposition using Parafilm as a mask

Zhang, C., Kalliomäki, J., Leskelä, M. & Ritala, M., tammikuuta 2018, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 36, 1, 5 Sivumäärä, ARTN 01B102.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Rhenium Metal and Rhenium Nitride Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

Hämäläinen, J., Mizohata, K., Meinander, K., Mattinen, M., Vehkamäki, M., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 26 lokakuuta 2018, julkaisussa : Angewandte Chemie (International Edition). 57, 44, s. 14538-14542 5 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Towards space-grade 3D-printed, ALD-coated small satellite propulsion components for fluidics

Kestilä, A., Nordling, K. G. M., Miikkulainen, V., Kaipio, M., Tikka, T., Salmi, M., Auer, A., Leskelä, M. & Ritala, M., elokuuta 2018, julkaisussa : Additive manufacturing. 22, s. 31-37 7 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

2017

As2S3 thin films deposited by atomic layer deposition

Färm, E., Heikkilä, M. J., Vehkamäki, M., Mizohata, K., Ritala, M., Leskelä, M. & Kemell, M., tammikuuta 2017, julkaisussa : Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 35, 1, 7 Sivumäärä, 01B114.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic layer deposition and properties of mixed Ta2O5 and ZrO2 films

Kukli, K., Kemell, M., Vehkamäki, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Kalam, K., Ritala, M., Leskelä, M., Kundrata, I. & Frohlich, K., helmikuuta 2017, julkaisussa : AIP Advances. 7, 2, 15 Sivumäärä, 025001.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Crystalline MoS2 Thin Films: New Molybdenum Precursor for Low-Temperature Film Growth

Mattinen, M., Hatanpaa, T., Sarnet, T., Mizohata, K., Meinander, K., King, P. J., Khriachtchev, L., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 22 syyskuuta 2017, julkaisussa : Advanced Materials Interfaces . 4, 18, 11 Sivumäärä, 1700123.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic layer deposition of tin oxide thin films from bis[bis(trimethylsilyl)amino]tin(II) with ozone and water

Tupala, J. O., Kemell, M. L., Mattinen, M. J., Meinander, N. K., Seppälä, S. S., Hatanpää, T. T., Räisänen, J. A., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A., 30 toukokuuta 2017, julkaisussa : Journal of Vacuum Science Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 35, 4, 8 Sivumäärä, 041506.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide as an Effective Catalyst for Photoelectrochemical Water-Splitting Devices

Kim, J., Iivonen, T., Hämäläinen, J., Kemell, M., Meinander, K., Mizohata, K., Wang, L., Räisänen, J., Beranek, R., Leskelä, M. & Devi, A., 25 heinäkuuta 2017, julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 14, s. 5796-5805 10 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Low-Resistivity Copper Thin Films Using Cu(dmap)(2) and Tertiary Butyl Hydrazine

Väyrynen, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Peeters, D., Devi, A., Ritala, M. & Leskelä, M., 8 elokuuta 2017, julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 15, s. 6502-6510 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Optimization of the Silver Nanoparticles PEALD Process on the Surface of 1-D Titania Coatings

Radtke, A., Jędrzejewski, T., Kozak, W., Sadowska, B., Więckowska-Szakiel, M., Talik, E., Mäkelä, M. I., Leskelä, M. A. & Piszczek, P., 24 heinäkuuta 2017, julkaisussa : Nanomaterials. 7, 7, 19 Sivumäärä, 193.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Preparation of Lithium Containing Oxides by the Solid State Reaction of Atomic Layer Deposited Thin Films

Atosuo, E., Mäntymäki, M., Mizohata, K., Heikkilä, M. J., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 14 helmikuuta 2017, julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 3, s. 998-1005 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Studies on Li3AlF6 thin film deposition utilizing conversion reactions of thin films

Mäntymäki, M. J., Mizohata, K., Heikkilä, M. J., Räisänen, J. A., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A., 2017, julkaisussa : Thin Solid Films. 636, s. 26-33 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Studies on Thermal Atomic Layer Deposition of Silver Thin Films

Mäkelä, M., Hatanpää, T., Mizohata, K., Meinander, K., Niinistö, J., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 14 maaliskuuta 2017, julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 5, s. 2040-2045 6 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Surface Modification of Acetaminophen Particles by Atomic Layer Deposition

Kääriäinen, T. O., Kemell, M. L., Vehkamäki, M. J., Kääriäinen, M-L., Correia, A., Almeida Santos, H., Marques dos Santos Bimbo, L. M., Hirvonen, J. T., Hoppu, P., George, S. M., Cameron, D. C., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A., 15 kesäkuuta 2017, julkaisussa : International Journal of Pharmaceutics. 525, 1, s. 160–174 15 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Thermal Atomic Layer Deposition of Continuous and Highly Conducting Gold Thin Films

Mäkelä, M. I., Hatanpää, T. T., Mizohata, K., Räisänen, J. A., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A., 27 kesäkuuta 2017, julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 14, s. 6130–6136 7 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

2016

Alkylsilyl compounds as enablers of atomic layer deposition: analysis of (Et3Si)(3)As through the GaAs process

Sarnet, T., Hatanpää, T., Laitinen, M., Sajavaara, T., Mizohata, K., Ritala, M. & Leskelä, M., 2016, julkaisussa : Journal of Materials Chemistry. C. 4, 3, s. 449-454 6 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic layer deposition of aluminum oxide on modified steel substrates

Kukli, K., Salmi, E., Jogiaas, T., Zabels, R., Schuisky, M., Westlinder, J., Mizohata, K., Ritala, M. & Leskelä, M., 25 lokakuuta 2016, julkaisussa : Surface & Coatings Technology. 304, s. 1-8 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of Iridium Thin Films Using Sequential Oxygen and Hydrogen Pulses

Mattinen, M., Hämäläinen, J., Vehkamäki, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Jalkanen, P., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 21 heinäkuuta 2016, julkaisussa : Journal of Physical Chemistry C. 120, 28, s. 15235-15243 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Bismuth iron oxide thin films using atomic layer deposition of alternating bismuth oxide and iron oxide layers

Puttaswamy, M., Vehkamäki, M., Kukli, K., Dimri, M. C., Kemell, M., Hatanpää, T., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., 29 heinäkuuta 2016, julkaisussa : Thin Solid Films. 611, s. 78-87 10 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Coating and functionalization of high density ion track structures by atomic layer deposition

Mättö, L., Szilagyi, I. M., Laitinen, M., Ritala, M., Leskelä, M. & Sajavaara, T., 2016, julkaisussa : Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors, and Associated Equipment. 832, s. 254-258 5 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu