Ei valokuvaa: Marko Vehkamäki
  • PL 55 (A. I. Virtasen aukio 1)

    00014

    Suomi

19982019
Jos olet muokannut tietoja Puressa, ne näkyvät pian tässä.

Henkilökohtainen profiili

Keywords

  • 116 Kemia

Kansainvälinen ja kotimainen yhteistyö Viimeisin maatasolla toteutettu yhteistyö. Saat syvempiä lisätietoja pisteitä napsauttamalla.

Julkaisut 1998 2019

Atomic Layer Deposition of Emerging 2D Semiconductors, HfS2 and ZrS2, for Optoelectronics

Mattinen, M., Popov, G., Vehkamäki, M., King, P., Mizohata, K., Jalkanen, P., Räisänen, J., Leskelä, M. & Ritala, M., 2 elokuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 15, s. 5713-5724

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of PbI₂ Thin Films

Popov, G., Mattinen, M. J., Hatanpää, T., Vehkamäki, M., Kemell, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 12 helmikuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 3, s. 1101–1109 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Reversely toposelective vapor deposition at normal pressure and temperature by capillary condensation

Lovikka, V. A., Kemell, M., Vehkamäki, M. & Leskelä, M., 1 heinäkuuta 2019, julkaisussa : Materials Horizons. 6, 6, s. 1230-1237 8 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu