• PL 55 (A. I. Virtasen aukio 1)

    00014

    Suomi

20152019
Jos olet muokannut tietoja Puressa, ne näkyvät pian tässä.

Henkilökohtainen profiili

Keywords

  • 116 Kemia
  • Atomic Layer Deposition
  • nanotechnology
  • Thin Films
  • 2D materials

Kansainvälinen ja kotimainen yhteistyö Viimeisin maatasolla toteutettu yhteistyö. Saat syvempiä lisätietoja pisteitä napsauttamalla.

Julkaisut 2015 2019

Atomic Layer Deposition of Emerging 2D Semiconductors, HfS2 and ZrS2, for Optoelectronics

Mattinen, M., Popov, G., Vehkamäki, M., King, P., Mizohata, K., Jalkanen, P., Räisänen, J., Leskelä, M. & Ritala, M., 2 elokuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 15, s. 5713-5724

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskela, M., helmikuuta 2019, julkaisussa : Advanced Materials Interfaces . 6, 3, 7 Sivumäärä, 1801291.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of Nickel Nitride Thin Films using NiCl2(TMPDA) and Tert‐Butylhydrazine as Precursors

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Räisänen, J., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., kesäkuuta 2019, julkaisussa : Physica Status Solidi. A: Applications and Materials Science. 216, 11, s. 1900058 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Atomic Layer Deposition of PbI₂ Thin Films

Popov, G., Mattinen, M. J., Hatanpää, T., Vehkamäki, M., Kemell, M., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., 12 helmikuuta 2019, julkaisussa : Chemistry of Materials. 31, 3, s. 1101–1109 9 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Atomic Layer Deposition of Photoconductive Cu2O Thin Films

Iivonen, T., Heikkilä, M. J., Popov, G., Nieminen, H-E., Kaipio, M., Kemell, M., Mattinen, M., Meinander, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., kesäkuuta 2019, julkaisussa : ACS Omega. 4, 6, s. 11205-11214 10 Sivumäärä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Open access
Tiedosto

Palkinnot

Best Oral Presentation (E-MRS Spring 2018 Meeting, Symposium T)

Miika Mattinen (Vastaanottaja), 22 kesäkuuta 2018

Palkinto: Palkinnot ja kunnianosoitukset

Oral Presentation Finalist

Miika Mattinen (Vastaanottaja), 2019

Palkinto: Palkinnot ja kunnianosoitukset

Aktiviteetit 2014 2019

  • 10 Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
  • 5 Käsikirjoitusten vertaisarviointi
  • 2 Isännöity akateeminen vierailu Helsingin yliopistossa
  • 2 Suullinen esitys

Atomic Layer Deposition of Emerging 2D Semiconductors HfS2 and ZrS2

Miika Mattinen (Puhuja)
21 heinäkuuta 201924 heinäkuuta 2019

Aktiviteetti: Puhe- tai esitystyypitSuullinen esitys

Materials Letters (Lehti)

Miika Mattinen (Arvioitsija (reviewer))
2019 → …

Aktiviteetti: Julkaisun vertaisarvioinnin ja toimituksellisen työn tyypitKäsikirjoitusten vertaisarviointi

Journal of Vacuum Science Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films (Lehti)

Miika Mattinen (Arvioitsija (reviewer))
2019 → …

Aktiviteetti: Julkaisun vertaisarvioinnin ja toimituksellisen työn tyypitKäsikirjoitusten vertaisarviointi

Van der Waals epitaxy of 2D materials using atomic layer deposition

Miika Mattinen (Puhuja)
24 kesäkuuta 201928 kesäkuuta 2019

Aktiviteetti: Puhe- tai esitystyypitSuullinen esitys

ALD 2018

Miika Mattinen (Puhuja: esitelmän pitäjä)
29 heinäkuuta 20181 elokuuta 2018

Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypitKonferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen