Tutkimustuotoksia vuodessa
Tutkimustuotoksia vuodessa
Henkilökohtainen profiili
Tieteenalat
- 116 Kemia
Kansainvälinen ja kotimainen yhteistyö
Viimeisin maa-/aluetasolla toteutettu yhteistyö. Saat tarkempia lisätietoja pisteitä napauttamalla, tai
-
Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films
Li, X., Vehkamaki, M., Heikkila, M., Mattinen, M., Putkonen, M., Leskela, M. & Ritala, M., maaliskuuta 2021, julkaisussa: Coatings. 11, 3, 13 Sivumäärä, 355.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Atomic layer deposition of TbF3 thin films
Atosuo, E., Ojala, J., Heikkila, M. J., Mattinen, M., Mizohata, K., Raisanen, J., Leskela, M. & Ritala, M., maaliskuuta 2021, julkaisussa: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 39, 2, 7 Sivumäärä, 022404.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Novel electroblowing synthesis of tin dioxide and composite tin dioxide/silicon dioxide submicron fibers for cobalt(II) uptake
Paajanen, J., Weintraub, S., Lönnrot, S., Heikkilä, M., Vehkamäki, M., Kemell, M., Hatanpää, T., Ritala, M. & Koivula, R., 4 toukokuuta 2021, julkaisussa: RSC Advances. 11, 25, s. 15245-15257 13 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Red Y2O3: Eu-Based Electroluminescent Device Prepared by Atomic Layer Deposition for Transparent Display Applications
Rosa, J., Heikkilä, M. J., Sirkia, M. & Merdes, S., maaliskuuta 2021, julkaisussa: Materials. 14, 6, 10 Sivumäärä, 1505.Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto -
Role of ALD Al2O3 Surface Passivation on the Performance of p-Type Cu2O Thin Film Transistors
Napari, M., Huq, T. N., Meeth, D. J., Heikkilä, M. J., Niang, K. M., Wang, H., Iivonen, T., Wang, H., Leskelä, M., Ritala, M., Flewitt, A. J., Hoye, R. L. Z. & MacManus-Driscoll, J. L., 27 tammikuuta 2021, julkaisussa: ACS Applied Materials & Interfaces. 13, 3, s. 4156-4164 9 SivumääräTutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › vertaisarvioitu
Open accessTiedosto
Aktiviteetit
-
High temperature XRD and XRR studies on atomic layer deposited niobium oxide - silicon oxide nanolaminates
Mikko Heikkilä (Puhuja)
27 kesäkuuta 2019Aktiviteetti: Puhe- tai esitystyypit › Suullinen esitys
-
Materials Characterization by the Combined Analysis
Mikko Heikkilä (Osallistuja)
26 marraskuuta 2018 → 30 marraskuuta 2018Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
-
Properties of ALD grown Al2O3-TiO2 laminates investigated by high temperature XRD/XRR and in situ wafer curvature measurements
Mikko Heikkilä (Puhuja)
17 syyskuuta 2018 → 20 syyskuuta 2018Aktiviteetti: Puhe- tai esitystyypit › Suullinen esitys
-
2017 E-MRS Fall Meeting and Exhibit
Mikko Heikkilä (Osallistuja)
18 syyskuuta 2017 → 21 syyskuuta 2017Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen
-
Synchrotron Radiation to Study Atomic Layer Deposition
Mikko Heikkilä (Puhuja: esitelmän pitäjä)
12 kesäkuuta 2016 → 15 kesäkuuta 2016Aktiviteetti: Tapahtumaan osallistumisen ja tapahtuman järjestämisen tyypit › Konferensseihin, kursseille ja seminaareihin osallistuminen ja näiden järjestäminen