A low-temperature thermal ALD process for nickel utilizing dichlorobis(triethylphosphine)nickel(ii) and 1,4-bis(trimethylgermyl)-1,4-dihydropyrazine

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiDalton Transactions
Vuosikerta51
Numero29
Sivut10898-10908
Sivumäärä11
ISSN1477-9226
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 26 heinäk. 2022
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia
  • 216 Materiaalitekniikka

Siteeraa tätä