Atomic Layer Deposition and Performance of ZrO2-Al2O3 Thin Films

Kaupo Kukli, Marianna Kemell, Helena Castan, Salvador Duenas, Helina Seemen, Mihkel Rähn, Joosep Link, Raivo Stern, Mikko J. Heikkilä, Mikko Ritala, Markku Leskelä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiECS Journal of Solid State Science and Technology
Vuosikerta7
Numero5
SivutP287-P294
Sivumäärä8
ISSN2162-8769
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2018
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 221 Nanoteknologia
  • 116 Kemia

Siteeraa tätä