Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates

Kaupo Kukli, Marianna Kemell, Helena Castan, Salvador Duenas, Helina Seemen, Mihkel Rähn, Joosep Link, Raivo Stern, Mikko Ritala, Markku Leskelä

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiECS Journal of Solid State Science and Technology
Vuosikerta7
Numero9
SivutP501-P508
Sivumäärä8
ISSN2162-8769
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 6 syyskuuta 2018
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia
  • 221 Nanoteknologia

Siteeraa tätä