Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films

Mikko Kaipio, Timothee Blanquart, Yoann Tomczak, Jaakko Niinisto, Marco Gavagnin, Valentino Longo, Heinz D. Wanzenboeck, Venkateswara R. Pallem, Christian Dussarrat, Esa Puukilainen, Mikko Ritala, Markku Leskela

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiLangmuir
Vuosikerta30
Numero25
Sivut7395-7404
Sivumäärä10
ISSN0743-7463
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 1 heinäkuuta 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Lainaa tätä

Kaipio, Mikko ; Blanquart, Timothee ; Tomczak, Yoann ; Niinisto, Jaakko ; Gavagnin, Marco ; Longo, Valentino ; Wanzenboeck, Heinz D. ; Pallem, Venkateswara R. ; Dussarrat, Christian ; Puukilainen, Esa ; Ritala, Mikko ; Leskela, Markku. / Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films. Julkaisussa: Langmuir. 2014 ; Vuosikerta 30, Nro 25. Sivut 7395-7404.
@article{d38ca91e9bf34d0bb71d1f68166e5283,
title = "Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films",
keywords = "IN-SITU, PRECURSOR, EPITAXY, PHOTOCATALYSIS, TRANSFORMATION, GENERATION, MORPHOLOGY, SURFACES, OXIDANT, ANATASE, 116 Chemical sciences",
author = "Mikko Kaipio and Timothee Blanquart and Yoann Tomczak and Jaakko Niinisto and Marco Gavagnin and Valentino Longo and Wanzenboeck, {Heinz D.} and Pallem, {Venkateswara R.} and Christian Dussarrat and Esa Puukilainen and Mikko Ritala and Markku Leskela",
year = "2014",
month = "7",
day = "1",
doi = "10.1021/la500893u",
language = "English",
volume = "30",
pages = "7395--7404",
journal = "Langmuir",
issn = "0743-7463",
publisher = "American Chemical Society",
number = "25",

}

Kaipio, M, Blanquart, T, Tomczak, Y, Niinisto, J, Gavagnin, M, Longo, V, Wanzenboeck, HD, Pallem, VR, Dussarrat, C, Puukilainen, E, Ritala, M & Leskela, M 2014, 'Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films', Langmuir, Vuosikerta 30, Nro 25, Sivut 7395-7404. https://doi.org/10.1021/la500893u

Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films. / Kaipio, Mikko; Blanquart, Timothee; Tomczak, Yoann; Niinisto, Jaakko; Gavagnin, Marco; Longo, Valentino; Wanzenboeck, Heinz D.; Pallem, Venkateswara R.; Dussarrat, Christian; Puukilainen, Esa; Ritala, Mikko; Leskela, Markku.

julkaisussa: Langmuir, Vuosikerta 30, Nro 25, 01.07.2014, s. 7395-7404.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

TY - JOUR

T1 - Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films

AU - Kaipio, Mikko

AU - Blanquart, Timothee

AU - Tomczak, Yoann

AU - Niinisto, Jaakko

AU - Gavagnin, Marco

AU - Longo, Valentino

AU - Wanzenboeck, Heinz D.

AU - Pallem, Venkateswara R.

AU - Dussarrat, Christian

AU - Puukilainen, Esa

AU - Ritala, Mikko

AU - Leskela, Markku

PY - 2014/7/1

Y1 - 2014/7/1

KW - IN-SITU

KW - PRECURSOR

KW - EPITAXY

KW - PHOTOCATALYSIS

KW - TRANSFORMATION

KW - GENERATION

KW - MORPHOLOGY

KW - SURFACES

KW - OXIDANT

KW - ANATASE

KW - 116 Chemical sciences

U2 - 10.1021/la500893u

DO - 10.1021/la500893u

M3 - Article

VL - 30

SP - 7395

EP - 7404

JO - Langmuir

JF - Langmuir

SN - 0743-7463

IS - 25

ER -

Kaipio M, Blanquart T, Tomczak Y, Niinisto J, Gavagnin M, Longo V et al. Atomic Layer Deposition, Characterization, and Growth Mechanistic Studies of TiO2 Thin Films. Langmuir. 2014 heinä 1;30(25):7395-7404. https://doi.org/10.1021/la500893u