Atomic layer deposition of aluminum fluoride thin films

Tutkimustuotos: Patentti

Alkuperäiskielienglanti
Julkaisuvuosi19 heinäkuuta 2016
TilaJulkaistu - 19 heinäkuuta 2016
OKM-julkaisutyyppiH1 Myönnetyt patentit

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä