Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide and Copper Oxide Thin Films

Tomi Iivonen

Tutkimustuotos: Opinnäyte › Väitöskirja › Artikkelikokoelma

Alkuperäiskieli	englanti
Myöntävä instituutio	Helsingin yliopisto
Valvoja/neuvonantaja	Leskelä, Markku, Valvoja Ritala, Mikko, Valvoja
Julkaisupaikka	Helsinki
Kustantaja	Helsingin yliopisto
Painoksen ISBN	978-951-51-6380-6
Tila	Julkaistu - 2020
OKM-julkaisutyyppi	G5 Tohtorinväitöskirja (artikkeli)

Tieteenalat

@phdthesis{b9a93da0f8da4fde926a656198044f31,

title = "Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide and Copper Oxide Thin Films",

keywords = "116 Chemical sciences",

author = "Tomi Iivonen",

year = "2020",

language = "English",

isbn = "978-951-51-6380-6",

publisher = "Helsingin yliopisto",

address = "Finland",

school = "University of Helsinki",

}