Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films

Xinzhi Li; Marko Vehkamaki; Mikko Heikkila; Miika Mattinen; Matti Putkonen; Markku Leskela; Mikko Ritala

doi:10.3390/coatings11030355

Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films

Xinzhi Li, Marko Vehkamaki, Mikko Heikkila, Miika Mattinen, Matti Putkonen, Markku Leskela, Mikko Ritala

Kemian osasto

Tutkimustuotos: Artikkelijulkaisu › Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	englanti
Artikkeli	355
Lehti	Coatings
Vuosikerta	11
Numero	3
Sivumäärä	13
ISSN	2079-6412
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.3390/coatings11030355
Tila	Julkaistu - maaliskuuta 2021
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

221 Nanoteknologia

Pääsy asiakirjaan

10.3390/coatings11030355Lisenssi: CC BY

coatings-11-00355-v2Lopullinen julkaistu versio, 4,74 MBLisenssi: CC BY

Siteeraa tätä

@article{4a0ea631687640bbb8bf7c51f52d4060,

title = "Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films",

keywords = "ALD, MLD, nanolaminate films, low-k materials, 221 Nano-technology",

author = "Xinzhi Li and Marko Vehkamaki and Mikko Heikkila and Miika Mattinen and Matti Putkonen and Markku Leskela and Mikko Ritala",

year = "2021",

month = mar,

doi = "10.3390/coatings11030355",

language = "English",

volume = "11",

journal = "Coatings",

issn = "2079-6412",

publisher = "MDPI AG",

number = "3",

}

TY - JOUR

T1 - Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films

AU - Li, Xinzhi

AU - Vehkamaki, Marko

AU - Heikkila, Mikko

AU - Mattinen, Miika

AU - Putkonen, Matti

AU - Leskela, Markku

AU - Ritala, Mikko

PY - 2021/3

Y1 - 2021/3

KW - ALD

KW - MLD

KW - nanolaminate films

KW - low-k materials

KW - 221 Nano-technology

U2 - 10.3390/coatings11030355

DO - 10.3390/coatings11030355

M3 - Article

VL - 11

JO - Coatings

JF - Coatings

SN - 2079-6412

IS - 3

M1 - 355

ER -