Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
Artikkeli1801291
LehtiAdvanced Materials Interfaces
Vuosikerta6
Numero3
Sivumäärä7
ISSN2196-7350
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - helmikuuta 2019
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 221 Nanoteknologia
  • 116 Kemia
  • 114 Fysiikka

Lainaa tätä

@article{4a94e1daed90453c8f415ad43126cc1b,
title = "Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films",
keywords = "atomic layer deposition, Co3Sn2, intermetallics, Ni3Sn2, thin films, ELECTROCHEMICAL PERFORMANCE, CATALYTIC-PROPERTIES, DIFFUSION BARRIER, TIN-OXIDE, LITHIUM, ALLOY, SUPERCONDUCTIVITY, NANOPARTICLES, NANOALLOYS, ELECTRODES, 221 Nano-technology, 116 Chemical sciences, 114 Physical sciences",
author = "Katja V{\"a}yrynen and Timo Hatanp{\"a}{\"a} and Miika Mattinen and Kenichiro Mizohata and Kristoffer Meinander and Jyrki R{\"a}is{\"a}nen and Joosep Link and Raivo Stern and Mikko Ritala and Markku Leskela",
year = "2019",
month = "2",
doi = "10.1002/admi.201801291",
language = "English",
volume = "6",
journal = "Advanced Materials Interfaces",
issn = "2196-7350",
publisher = "Wiley",
number = "3",

}

Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films. / Väyrynen, Katja; Hatanpää, Timo; Mattinen, Miika; Mizohata, Kenichiro; Meinander, Kristoffer; Räisänen, Jyrki; Link, Joosep; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskela, Markku.

julkaisussa: Advanced Materials Interfaces , Vuosikerta 6, Nro 3, 1801291, 02.2019.

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

TY - JOUR

T1 - Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 and Ni3Sn2 Thin Films

AU - Väyrynen, Katja

AU - Hatanpää, Timo

AU - Mattinen, Miika

AU - Mizohata, Kenichiro

AU - Meinander, Kristoffer

AU - Räisänen, Jyrki

AU - Link, Joosep

AU - Stern, Raivo

AU - Ritala, Mikko

AU - Leskela, Markku

PY - 2019/2

Y1 - 2019/2

KW - atomic layer deposition

KW - Co3Sn2

KW - intermetallics

KW - Ni3Sn2

KW - thin films

KW - ELECTROCHEMICAL PERFORMANCE

KW - CATALYTIC-PROPERTIES

KW - DIFFUSION BARRIER

KW - TIN-OXIDE

KW - LITHIUM

KW - ALLOY

KW - SUPERCONDUCTIVITY

KW - NANOPARTICLES

KW - NANOALLOYS

KW - ELECTRODES

KW - 221 Nano-technology

KW - 116 Chemical sciences

KW - 114 Physical sciences

U2 - 10.1002/admi.201801291

DO - 10.1002/admi.201801291

M3 - Article

VL - 6

JO - Advanced Materials Interfaces

JF - Advanced Materials Interfaces

SN - 2196-7350

IS - 3

M1 - 1801291

ER -