Atomic Layer Deposition of Ti x Fe2-x O3 Photoanodes and Photocurrent Response Optimization Using the Response Surface Methodology

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiACS Omega
Vuosikerta10
Numero14
Sivut14522-14535
Sivumäärä14
ISSN2470-1343
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 5 huhtik. 2025
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä