Atomic Layer Deposition of Zinc Glutarate Thin Films

Leo Daniel Salmi, Miika Juhana Mattinen, Teemu Yrjö Manuel Niemi, Mikko Juhani Heikkilä, Kenichiro Mizohata, Sanna Korhonen, Sami-Pekka Hirvonen, Jyrki Antero Räisänen, Mikko Kalervo Ritala

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Abstrakti

Deposition of zinc glutarate thin films by atomic layer deposition is studied at 200-250 degrees C using zinc acetate and glutaric acid as the precursors. The films are characterized by UV-vis spectrophotometry, X-ray diffraction, Fourier transform infrared spectroscopy, field emission scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy, atomic force microscopy, and time-of-flight elastic recoil detection analysis. According to X-ray diffraction, the films deposited at 200 degrees C are crystalline with a crystal structure matching to zinc glutarate. The elastic recoil detection analysis shows that the composition of the films is a close match to zinc glutarate. Catalytic activity of the films is demonstrated using the copolymerization reaction of propylene oxide and CO2
Alkuperäiskielienglanti
Artikkeli1700512
LehtiAdvanced Materials Interfaces
Vuosikerta4
Numero22
Sivumäärä6
ISSN2196-7350
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - syyskuuta 2017
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia
  • 221 Nanoteknologia
  • 216 Materiaalitekniikka

Siteeraa tätä