CO2-LASER ANNEALING OF SILICON

K NAUKKARINEN, T TUOMI, M BLOMBERG, M LUOMAJARVI, E RAUHALA

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiJournal of Applied Physics
Vuosikerta53
Numero8
Sivut5634-5640
Sivumäärä7
ISSN0021-8979
TilaJulkaistu - 1982
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Siteeraa tätä

NAUKKARINEN, K., TUOMI, T., BLOMBERG, M., LUOMAJARVI, M., & RAUHALA, E. (1982). CO2-LASER ANNEALING OF SILICON. Journal of Applied Physics, 53(8), 5634-5640.