Coating of highly porous fiber matrices by atomic layer deposition

Marianna Kemell, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Roland Groenen, Sven Lindfors

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    Abstrakti

    The potential of atomic layer deposition (ALD) in the coating of highly porous, 0.5 mm thick, metal fiber matrices is explored. Three different reactor types are compared for ALD of Al2O3 thin films from trimethylaluminum and water. Both an evacuation-type and a flow-type process are successful in forming conformal Al2O3 coatings on the fibers. The coatings are able to protect the fibers against electrochemical corrosion and thermal oxidation. In addition, a metallic Ir thin film is deposited by ALD on one of the Al2O3-coated fiber matrices. This kind of a structure could be used, for example, as a catalytic filter.
    Alkuperäiskielienglanti
    LehtiChemical Vapor Deposition
    Vuosikerta14
    Sivut347-352
    Sivumäärä6
    ISSN0948-1907
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2008
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

    Tieteenalat

    • 116 Kemia

    Siteeraa tätä