Comparison of HfO2 Thin Films Grown by ALD Using Cp2Hf(CH3)2 and Water or Ozone as Precursors

Jaakko Niinistö, Matti Putkonen, Lauri Niinistö

Tutkimustuotos: Kirja/raportti › Tutkimusraportti

Alkuperäiskieli	englanti

Tila	Julkaistu - 2004
Julkaistu ulkoisesti	Kyllä
OKM-julkaisutyyppi	D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys

HelsinkiALD
Putkonen, M. (Johtaja), Ritala, M. (Johtaja), Mäntymäki, M. (Operaattori), Kemell, M. (Operaattori), Vehkamäki, M. (Operaattori) & Heikkilä, M. (Operaattori)
Kemian osasto
Laitteistot/tilat: Tutkimuslaboratorio

Laitteet