Conduction and stability of holmium titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition

H. Castan, H. Garcia, S. Duenas, L. Bailon, E. Miranda, K. Kukli, M. Kemell, M. Ritala, M. Leskela

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiThin Solid Films
Vuosikerta591
Sivut55-59
Sivumäärä5
ISSN0040-6090
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 30 syyskuuta 2015
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia
  • 114 Fysiikka

Siteeraa tätä