Conformality of remote plasma-enhanced atomic layer deposition processes: An experimental study

Maarit Kariniemi, Jaakko Niinistö, Marko Vehkamäki, Marianna Kemell, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Matti Putkonen

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    Alkuperäiskielienglanti
    LehtiJournal of Vacuum Science & Technology. A: International Journal Devoted to Vacuum, Surfaces, and Films
    Vuosikerta30
    Numero1
    Sivut01A115
    Sivumäärä5
    ISSN1553-1813
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2012
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

    Tieteenalat

    • 116 Kemia

    Siteeraa tätä