Deposition of Copper by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Using a Novel N-Heterocyclic Carbene Precursor

Jason P. Coyle, Gangotri Dey, Eric R. Sirianni, Marianna L. Kemell, Glenn P. A. Yap, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Simon D. Elliott, Sean T. Barry

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiChemistry of Materials
Vuosikerta25
Numero7
Sivut1132-1138
Sivumäärä7
ISSN0897-4756
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 9 huhtikuuta 2013
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä