Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition

J. Niinisto, T. Blanquart, S. Seppala, M. Ritala, M. Leskela

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/raportissa/konferenssijulkaisussaKonferenssiartikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
OtsikkoAtomic Layer Deposition Applications 10
ToimittajatF Roozeboom, S DeGendt, A Delabie, JW Elam, A Londergan, O VanDerStraten
Sivumäärä12
KustantajaELECTROCHEMICAL SOC INC
Julkaisupäivä2014
Sivut221-232
ISBN (painettu)978-1-62332-189-5
ISBN (elektroninen)978-1-60768-546-3
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa
TapahtumaInternational Symposium on Atomic Layer Deposition Applications - Cancun, Meksiko
Kesto: 5 lokakuuta 20149 lokakuuta 2014
Konferenssinumero: 10

Julkaisusarja

NimiECS Transactions
KustantajaELECTROCHEMICAL SOC INC
Numero9
Vuosikerta64
ISSN (painettu)1938-5862

Lisätietoja


Volume:
Proceeding volume:

Tieteenalat

  • 116 Kemia
  • 114 Fysiikka

Lainaa tätä

Niinisto, J., Blanquart, T., Seppala, S., Ritala, M., & Leskela, M. (2014). Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition. teoksessa F. Roozeboom, S. DeGendt, A. Delabie, JW. Elam, A. Londergan, & O. VanDerStraten (Toimittajat), Atomic Layer Deposition Applications 10 (Sivut 221-232). (ECS Transactions; Vuosikerta 64, Nro 9). ELECTROCHEMICAL SOC INC. https://doi.org/10.1149/06409.0221ecst
Niinisto, J. ; Blanquart, T. ; Seppala, S. ; Ritala, M. ; Leskela, M. / Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition. Atomic Layer Deposition Applications 10. Toimittaja / F Roozeboom ; S DeGendt ; A Delabie ; JW Elam ; A Londergan ; O VanDerStraten. ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2014. Sivut 221-232 (ECS Transactions; 9).
@inproceedings{34b12ce9921d4c72af48c9de5091e120,
title = "Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition",
keywords = "OXIDE THIN-FILMS, CYCLOPENTADIENYL PRECURSORS, WATER, GROWTH, HAFNIUM, ALD, 116 Chemical sciences, 114 Physical sciences",
author = "J. Niinisto and T. Blanquart and S. Seppala and M. Ritala and M. Leskela",
note = "Volume: Proceeding volume:",
year = "2014",
doi = "10.1149/06409.0221ecst",
language = "English",
isbn = "978-1-62332-189-5",
series = "ECS Transactions",
publisher = "ELECTROCHEMICAL SOC INC",
number = "9",
pages = "221--232",
editor = "F Roozeboom and S DeGendt and A Delabie and JW Elam and A Londergan and O VanDerStraten",
booktitle = "Atomic Layer Deposition Applications 10",
address = "United States",

}

Niinisto, J, Blanquart, T, Seppala, S, Ritala, M & Leskela, M 2014, Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition. julkaisussa F Roozeboom, S DeGendt, A Delabie, JW Elam, A Londergan & O VanDerStraten (toim), Atomic Layer Deposition Applications 10. ECS Transactions, Nro 9, Vuosikerta 64, ELECTROCHEMICAL SOC INC, Sivut 221-232, International Symposium on Atomic Layer Deposition Applications, Cancun, Meksiko, 05/10/2014. https://doi.org/10.1149/06409.0221ecst

Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition. / Niinisto, J.; Blanquart, T.; Seppala, S.; Ritala, M.; Leskela, M.

Atomic Layer Deposition Applications 10. toim. / F Roozeboom; S DeGendt; A Delabie; JW Elam; A Londergan; O VanDerStraten. ELECTROCHEMICAL SOC INC, 2014. s. 221-232 (ECS Transactions; Vuosikerta 64, Nro 9).

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/raportissa/konferenssijulkaisussaKonferenssiartikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

TY - GEN

T1 - Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition

AU - Niinisto, J.

AU - Blanquart, T.

AU - Seppala, S.

AU - Ritala, M.

AU - Leskela, M.

N1 - Volume: Proceeding volume:

PY - 2014

Y1 - 2014

KW - OXIDE THIN-FILMS

KW - CYCLOPENTADIENYL PRECURSORS

KW - WATER

KW - GROWTH

KW - HAFNIUM

KW - ALD

KW - 116 Chemical sciences

KW - 114 Physical sciences

U2 - 10.1149/06409.0221ecst

DO - 10.1149/06409.0221ecst

M3 - Conference contribution

SN - 978-1-62332-189-5

T3 - ECS Transactions

SP - 221

EP - 232

BT - Atomic Layer Deposition Applications 10

A2 - Roozeboom, F

A2 - DeGendt, S

A2 - Delabie, A

A2 - Elam, JW

A2 - Londergan, A

A2 - VanDerStraten, O

PB - ELECTROCHEMICAL SOC INC

ER -

Niinisto J, Blanquart T, Seppala S, Ritala M, Leskela M. Heteroleptic Precursors for Atomic Layer Deposition. julkaisussa Roozeboom F, DeGendt S, Delabie A, Elam JW, Londergan A, VanDerStraten O, toimittajat, Atomic Layer Deposition Applications 10. ELECTROCHEMICAL SOC INC. 2014. s. 221-232. (ECS Transactions; 9). https://doi.org/10.1149/06409.0221ecst