Highly Material Selective and Self-Aligned Photo-assisted Atomic Layer Deposition of Copper on Oxide Materials

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
Artikkeli2100014
LehtiAdvanced Materials Interfaces
Vuosikerta8
Numero11
Sivumäärä9
ISSN2196-7350
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 9 kesäk. 2021
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 114 Fysiikka
  • 116 Kemia

Siteeraa tätä