In Situ Reaction Mechanism Studies on Atomic Layer Deposition of AlxSiyOz from Trimethylaluminium, Hexakis(ethylamino)disilane, and Water

Julkaisun otsikon käännös: In Situ Reaction Mechanism Studies on Atomic Layer Deposition of AlxSiyOz from Trimethylaluminium, Hexakis(ethylamino)disilane, and Water

Yoann Tomczak, Kjell Knapas, Suvi Haukka, Marianna Kemell, Mikko Heikkilä, Marcel Ceccato, Markku Leskelä, Mikko Ritala

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Julkaisun otsikon käännösIn Situ Reaction Mechanism Studies on Atomic Layer Deposition of AlxSiyOz from Trimethylaluminium, Hexakis(ethylamino)disilane, and Water
Alkuperäiskielienglanti
LehtiChemistry of Materials
Vuosikerta24
Numero20
Sivut3859-3867
Sivumäärä9
ISSN0897-4756
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 23 lokakuuta 2012
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä