Pattern formation on ion-irradiated Si surface at energies where sputtering is negligible

A. Lopez-Cazalilla, D. Chowdhury, A. Ilinov, S. Mondal, P. Barman, S. R. Bhattacharyya, D. Ghose, F. Djurabekova, K. Nordlund, S. Norris

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
Artikkeli235108
LehtiJournal of Applied Physics
Vuosikerta123
Numero23
Sivumäärä10
ISSN0021-8979
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 21 kesäkuuta 2018
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 114 Fysiikka

Siteeraa tätä