Phase separation and Si nanocrystal formation in bulk SiO studied by x-ray scattering

O.M. Feroughi, C. Sternemann, C. Sahle, M.A. Schroer, H. Sternemann, H. Conrad, A. Hohl, G.T. Seidler, J. Bradley, T.T. Fister, M. Balasubramanian, A. Sakko, K. Pirkkalainen, K. Hämäläinen, M. Tolan

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiApplied Physics Letters
Vuosikerta96
Sivut081912
Sivumäärä3
ISSN0003-6951
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2010
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 114 Fysiikka

Siteeraa tätä

Feroughi, O. M., Sternemann, C., Sahle, C., Schroer, M. A., Sternemann, H., Conrad, H., ... Tolan, M. (2010). Phase separation and Si nanocrystal formation in bulk SiO studied by x-ray scattering. Applied Physics Letters, 96, 081912. https://doi.org/10.1063/1.3323106