Precursor Chemistry for Atomic Layer Deposition

Tutkimustuotos: OpinnäyteVäitöskirjaArtikkelikokoelma

Alkuperäiskielienglanti
Myöntävä instituutio
  • Helsingin yliopisto
JulkaisupaikkaHelsinki
Kustantaja
Painoksen ISBN978-951-51-5329-6
TilaJulkaistu - 2019
OKM-julkaisutyyppiG5 Tohtorinväitöskirja (artikkeli)

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä