| Alkuperäiskieli | englanti |
|---|
| Tila | Julkaistu - 2011 |
|---|---|
| Julkaistu ulkoisesti | Kyllä |
| OKM-julkaisutyyppi | D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys |
Properties of AlN Film Grown by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
M. Bosund, Matti Putkonen, T. Sajavaara, M. Laitinen, T. Huhtio, V-M. Airaksinen, H. Lipsanen
Tutkimustuotos: Kirja/raportti › Tutkimusraportti