Si/Al2O3/ZnO : Al capacitor arrays formed in electrochemically etched porous Si by atomic layer deposition

Marianna Kemell, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Emmanuel Ossei-Wusu, Jurgen Carstensen, Helmut Föll

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    Alkuperäiskielienglanti
    LehtiMicroelectronic Engineering
    Vuosikerta84
    Numero2
    Sivut313-318
    Sivumäärä6
    ISSN0167-9317
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2007
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

    Tieteenalat

    • 116 Kemia

    Siteeraa tätä