Suppression of Forward Electron Injection from Ru(dcbpy)(2)(NCS)(2) to Nanocrystalline TiO2 Film As a Result of an Interfacial Al2O3 Barrier Layer Prepared with Atomic Layer Deposition

Liisa J. Antila, Mikko J. Heikkilä, Viivi Aumanen, Marianna Kemell, Pasi Myllyperkiö, Markku Leskelä, Jouko E. I. Korppi-Tommola

Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Alkuperäiskielienglanti
LehtiJournal of Physical Chemistry Letters
Vuosikerta1
Numero2
Sivut536-539
Sivumäärä4
ISSN1948-7185
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2010
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä, vertaisarvioitu

Tieteenalat

  • 116 Kemia

Siteeraa tätä