Matti Putkonen

Visa Scopus-profil

Telefon+358405203099, +358294150199
E-postadressmatti.putkonenhelsinkifi

PL 55 (A. I. Virtasen aukio 1)
00014
Finland
Finland

Forskningsoutput per år

Om du gjort några ändringar i Pure kommer de visas här snart.

Vetenskapsgrenar

116 Kemi

85 Artikel
30 Beställd rapport
3 Kapitel
3 Konferensbidrag

Atomic Layer Deposition of Boron-Doped Al2O3 Dielectric Films
Li, X., Vehkamäki, M., Chundak, M., Mizohata, K., Vihervaara, A., Leskelä, M., Putkonen, M. & Ritala, M., juni 2023, I: Advanced Materials Interfaces . 10, 18, 8 s., 2300173.
Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review

Öppen tillgång
Fil
Atomic Layer Deposition of Zinc Oxide on Mesoporous Zirconia Using Zinc(II) Acetylacetonate and Air
Yim, J., Haimi, E., Mäntymäki, M., Kärkäs, V., Bes, R., Gutierrez, A. A., Meinander, K., Brüner, P., Grehl, T., Gell, L., Viinikainen, T., Honkala, K., Huotari, S., Karinen, R., Putkonen, M. & Puurunen, R. L., 29 sep. 2023, I: Chemistry of Materials. 16 s., 3c00668.
Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review

Öppen tillgång
Fil
Electrochemical Reduction of CO₂ to Formate in a Flow Cell on CuS_x Grown by Atomic Layer Deposition
Suominen, M., Mäntymäki, M., Mattinen, M., Sainio, J., Putkonen, M. & Kallio, T., 2023, I: Materials today sustainability.
Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review

Öppen tillgång
Fil
In vacuo cluster tool for studying reaction mechanisms in atomic layer deposition and atomic layer etching processes
Nieminen, H-E., Chundak, M., Heikkila, M. J., Karkkainen, P. R., Vehkamaki, M., Putkonen, M. & Ritala, M., mars 2023, I: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 41, 2, 11 s., 022401.
Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
In vacuo studies on reaction mechanisms in ALD processes of ruthenium and platinum films
Nieminen, H., Putkonen, M. & Ritala, M., 7 okt. 2023, (Insänt) I: Applied Surface Science.
Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review

1 Ej startad

JAES-1/2024-12/2027-Putkonen
Putkonen, M.
Jane ja Aatos Erkon säätiö
01/01/2024 → 31/12/2027
Projekt: Stiftelser och fonder

HelsinkiALD
Matti Putkonen (Chef), Mikko Ritala (Chef), Miia Mäntymäki (Operatör), Marianna Kemell (Operatör), Marko Vehkamäki (Operatör) & Mikko Heikkilä (Operatör)
Avdelningen för kemi
Utrustning/facilitet: Forskningslaboratorium

Matti Putkonen

Personlig profil

Vetenskapsgrenar

Internationellt och inhemskt samarbete

Fördjupning

Atomic Layer Deposition of Boron-Doped Al2O3 Dielectric Films

Atomic Layer Deposition of Zinc Oxide on Mesoporous Zirconia Using Zinc(II) Acetylacetonate and Air

Electrochemical Reduction of CO₂ to Formate in a Flow Cell on CuS_x Grown by Atomic Layer Deposition

In vacuo cluster tool for studying reaction mechanisms in atomic layer deposition and atomic layer etching processes

In vacuo studies on reaction mechanisms in ALD processes of ruthenium and platinum films

JAES-1/2024-12/2027-Putkonen

HelsinkiALD

Matti Putkonen

Personlig profil

Vetenskapsgrenar

Internationellt och inhemskt samarbete

Publikationer

Atomic Layer Deposition of Boron-Doped Al2O3 Dielectric Films

Atomic Layer Deposition of Zinc Oxide on Mesoporous Zirconia Using Zinc(II) Acetylacetonate and Air

Electrochemical Reduction of CO2 to Formate in a Flow Cell on CuSx Grown by Atomic Layer Deposition

In vacuo cluster tool for studying reaction mechanisms in atomic layer deposition and atomic layer etching processes

In vacuo studies on reaction mechanisms in ALD processes of ruthenium and platinum films

Projekter

JAES-1/2024-12/2027-Putkonen

Utrustning

HelsinkiALD

Electrochemical Reduction of CO₂ to Formate in a Flow Cell on CuS_x Grown by Atomic Layer Deposition