Inget foto av Mikko Heikkilä
  • PL 55 (A. I. Virtasen aukio 1)

    00014

    Finland

20062020

Research output per year

Om du gjort några ändringar i Pure kommer de visas här snart.

Personlig profil

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi

Internationellt och inhemskt samarbete Publikationer och projekt inom de senaste fem åren.

Publikationer

  • 74 Artikel
  • 2 Konferensbidrag
  • 2 Konferensartikel
  • 1 Översiktsartikel

High temperature x-ray scattering studies of atomic layer deposited IrO2

Heikkilä, M., Hämäläinen, J., Leskelä, M. & Ritala, M., 26 jan 2020, (!!Accepted/In press) I : Journal of Applied Crystallography.

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Van der Waals epitaxy of continuous thin films of 2D materials using atomic layer deposition in low temperature and low vacuum conditions

Mattinen, M., King, P. J., Popov, G., Hämäläinen, J., Heikkilä, M. J., Leskelä, M. & Ritala, M., jan 2020, I : 2D Materials. 7, 1, 8 s., 011003.

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Al2O3 Thin Films Prepared by a Combined Thermal-Plasma Atomic Layer Deposition Process at Low Temperature for Encapsulation Applications

Zhu, Z., Merdes, S., Ylivaara, O. M. E., Mizohata, K., Heikkilä, M. J. & Savin, H., 30 sep 2019, I : Physica Status Solidi. A: Applications and Materials Science. 5 s., 1900237.

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Atomic Layer Deposition of Nickel Nitride Thin Films using NiCl2(TMPDA) and Tert‐Butylhydrazine as Precursors

Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M. J., Mizohata, K., Räisänen, J., Link, J., Stern, R., Ritala, M. & Leskelä, M., jun 2019, I : Physica Status Solidi. A: Applications and Materials Science. 216, 11, s. 1900058 9 s., 1900058.

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Atomic Layer Deposition of Photoconductive Cu2O Thin Films

Iivonen, T., Heikkilä, M. J., Popov, G., Nieminen, H-E., Kaipio, M., Kemell, M., Mattinen, M., Meinander, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M., jun 2019, I : ACS Omega. 4, 6, s. 11205-11214 10 s.

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Öppen tillgång
Fil

Aktiviteter

  • 15 Arrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium
  • 2 !!Oral presentation

High temperature XRD and XRR studies on atomic layer deposited niobium oxide - silicon oxide nanolaminates

Mikko Heikkilä (!!Speaker)
27 jun 2019

Aktivitet: Typer för tal eller presentation!!Oral presentation

Properties of ALD grown Al2O3-TiO2 laminates investigated by high temperature XRD/XRR and in situ wafer curvature measurements

Mikko Heikkilä (!!Speaker)
17 sep 201820 sep 2018

Aktivitet: Typer för tal eller presentation!!Oral presentation

Materials Characterization by the Combined Analysis

Mikko Heikkilä (Närvarande)
26 nov 201830 nov 2018

Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemangArrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium

2017 E-MRS Fall Meeting and Exhibit

Mikko Heikkilä (Närvarande)
18 sep 201721 sep 2017

Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemangArrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium

Synchrotron Radiation to Study Atomic Layer Deposition

Mikko Heikkilä (Talare: Presentation)
12 jun 201615 jun 2016

Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemangArrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium