Forskningsresultat per år
Forskningsresultat per år
Personlig profil
Vetenskapsgrenar
- 116 Kemi
Internationellt och inhemskt samarbete
Publikationer och projekt inom de senaste fem åren.
-
Atomic Layer Deposition of Ti x Fe2-x O3 Photoanodes and Photocurrent Response Optimization Using the Response Surface Methodology
Deb, A., Vihervaara, A., Popov, G., Chundak, M., Abdelaal, A. O., Santos, H. L. S., Heikkila, M. J., Kemell, M., Camargo, P. H. C., Ritala, M. & Putkonen, M., 5 apr. 2025, I: ACS Omega. 10, 14, s. 14522-14535 14 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
Chemically Specific Coherent Raman Imaging of Liquid−Liquid Phase Separation and Its Sequelae
Arbiol Enguita, A. M., Zöller, L., Tomberg, T., Heikkilä, M. J., Saarinen, J., Wurr, L. S., Konings, T., Rebelo Correia, A. M., Saal, C., Dressman, J. & Strachan, C., 7 feb. 2025, I: Analytical Chemistry. 11 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
Indoor direct air capture using amorphous MOF pellets from blast furnace slag: Waste to porous functional materials
Singh, B., Kemell, M., Heikkilä, M. J. & Repo, T., 1 feb. 2025, I: Chemical Engineering Journal. 505, 9 s., 159416.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
Atomic Layer Deposition of Molybdenum Carbide Thin Films
Kärkkäinen, P., Popov, G., Hatanpää, T., Kemppinen, A., Kohopää, K., Bagheri, M., Komsa, H.-P., Heikkilä, M., Mizohata, K., Chundak, M., Deminskyi, P., Vihervaara, A., Ribeiro, M., Hätinen, J., Govenius, J., Putkonen, M. & Ritala, M., 1 juli 2024, I: Advanced Materials Interfaces . 12 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
Atomic Layer Deposition of ScF3 and ScxAl yFz Thin Films
Atosuo, E., Heikkilä, M., Majlund, J., Pesonen, L., Mäntymäki, M., Mizohata, K., Leskelä, M. & Ritala, M., 12 mars 2024, I: ACS Omega. 9, 10, s. 11747–11754 8 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil
Aktiviteter
-
High temperature XRD and XRR studies on atomic layer deposited niobium oxide - silicon oxide nanolaminates
Heikkilä, M. (!!Speaker)
27 juni 2019Aktivitet: Typer för tal eller presentation › !!Oral presentation
-
Properties of ALD grown Al2O3-TiO2 laminates investigated by high temperature XRD/XRR and in situ wafer curvature measurements
Heikkilä, M. (!!Speaker)
17 sep. 2018 → 20 sep. 2018Aktivitet: Typer för tal eller presentation › !!Oral presentation
-
Materials Characterization by the Combined Analysis
Heikkilä, M. (Närvarande)
26 nov. 2018 → 30 nov. 2018Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemang › Arrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium
-
2017 E-MRS Fall Meeting and Exhibit
Heikkilä, M. (Närvarande)
18 sep. 2017 → 21 sep. 2017Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemang › Arrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium
-
Synchrotron Radiation to Study Atomic Layer Deposition
Heikkilä, M. (Talare: Presentation)
12 juni 2016 → 15 juni 2016Aktivitet: Typer för deltagande i eller organisering av evenemang › Arrangemang av och deltagande i konferens/workshop/kurs/seminarium
Utrustning
-
HelsinkiALD
Putkonen, M. (Chef), Ritala, M. (Chef), Mäntymäki, M. (Operatör), Kemell, M. (Operatör), Vehkamäki, M. (Operatör) & Heikkilä, M. (Operatör)
Avdelningen för kemiUtrustning/facilitet: Forskningslaboratorium