Forskningsresultat per år
Forskningsresultat per år
Personlig profil
Utbildning / akademisk kvalifikation
Materials science, Postdoctoral researcher, Catholic Univ Louvain, Universite Catholique Louvain, Bio & Soft Matter BSMA Div, Inst Condensed Matter & Nanosci IMCN
Tilldelningsdatum: 4 apr. 2019
Surface and Interface Physics, JSPS postdoctoral Fellow, Natl Inst Mat Sci, National Institute for Materials Science, MANA Nanoelect Mat Unit
14 okt. 2015 → 13 okt. 2017
Tilldelningsdatum: 14 okt. 2015
Surface and Interface Physics, PhD, Charles University in Prague CU
Tilldelningsdatum: 25 juni 2015
Vetenskapsgrenar
- 216 Materialteknik
- 114 Fysik
- 221 Nanoteknologi
Internationellt och inhemskt samarbete
Publikationer och projekt inom de senaste fem åren.
-
Atomic Layer Deposition of Boron-Doped Al2O3 Dielectric Films
Li, X., Vehkamäki, M., Chundak, M., Mizohata, K., Vihervaara, A., Leskelä, M., Putkonen, M. & Ritala, M., juni 2023, I: Advanced Materials Interfaces . 10, 18, 8 s., 2300173.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
In vacuo cluster tool for studying reaction mechanisms in atomic layer deposition and atomic layer etching processes
Nieminen, H-E., Chundak, M., Heikkila, M. J., Karkkainen, P. R., Vehkamaki, M., Putkonen, M. & Ritala, M., mars 2023, I: Journal of vacuum science & technology : an official journal of the American Vacuum Society. 41, 2, 11 s., 022401.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
-
Molecular layer deposition of hybrid silphenylene-based dielectric film
Li, X., Vehkamäki, M., Chundak, M., Mizohata, K., Vihervaara, A., Putkonen, M., Leskelä, M. & Ritala, M., 11 okt. 2023, I: Advanced composites and hybrid materials. 6, 5, 11 s., 183.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
Reductive Thermal Atomic Layer Deposition Process for Gold
Vihervaara, A., Hatanpää, T., Nieminen, H., Mizohata, K., Chundak, M. & Ritala, M., maj 2023, I: ACS materials Au. 3, 3, s. 206-214 9 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil -
A low-temperature thermal ALD process for nickel utilizing dichlorobis(triethylphosphine)nickel(ii) and 1,4-bis(trimethylgermyl)-1,4-dihydropyrazine
Vihervaara, A., Hatanpää, T., Mizohata, K., Chundak, M., Popov, G. & Ritala, M., 26 juli 2022, I: Dalton Transactions. 51, 29, s. 10898-10908 11 s.Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review
Öppen tillgångFil