A low-temperature thermal ALD process for nickel utilizing dichlorobis(triethylphosphine)nickel(ii) and 1,4-bis(trimethylgermyl)-1,4-dihydropyrazine

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Originalspråkengelska
TidskriftDalton Transactions
Volym51
Utgåva29
Sidor (från-till)10898-10908
Antal sidor11
ISSN1477-9226
DOI
StatusPublicerad - 26 juli 2022
MoE-publikationstypA1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi
  • 216 Materialteknik

Citera det här