ALD of HfO2 using a new organometallic Hf precursor, The AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2006)

A.C. Jones, R. O’Kane, F. Song, P. Heys, P.A. Williams, Lauri Niinistö, Jaakko Niinistö, M. Putkonen, R. Hammond, A. Bacon

Forskningsoutput: Bok/rapportBeställd rapport

Originalspråkengelska
StatusPublicerad - 2006
Externt publiceradJa
MoE-publikationstypD4 Publicerad utvecklings- eller forskningsrapport eller studie

Citera det här