Atomic layer deposition of aluminum fluoride thin films

Miia Mäntymäki, Mikko Ritala, Markku Leskelä

Forskningsoutput: Patent

Originalspråkengelska
Utgivningsår19 jul 2016
StatusPublicerad - 19 jul 2016
MoE-publikationstypH1 Beviljat patent

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi

Citera det här