Atomic layer deposition of CoF2, NiF2 and HoF3 thin films

Elisa Atosuo; Miia Mäntymäki; Leevi Pesonen; Kenichiro Mizohata; Timo Hatanpää; Markku Leskelä; Mikko Ritala

doi:10.1039/d3dt01717f

Atomic layer deposition of CoF₂, NiF₂ and HoF₃ thin films

Elisa Atosuo, Miia Mäntymäki, Leevi Pesonen, Kenichiro Mizohata, Timo Hatanpää, Markku Leskelä, Mikko Ritala

Forskningsoutput: Tidskriftsbidrag › Artikel › Vetenskaplig › Peer review

Originalspråk	engelska
Tidskrift	Dalton Transactions
Volym	52
Nummer	31
Sidor (från-till)	10844-10854
Antal sidor	11
ISSN	1477-9226
DOI	https://doi.org/10.1039/d3dt01717f
Status	Publicerad - 8 aug. 2023
MoE-publikationstyp	A1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

116 Kemi

Åtkomst av dokument

10.1039/d3dt01717fLicens: CC BY

d3dt01717fSlutlig publicerad version, 4,91 MBLicens: CC BY

HelsinkiALD
Matti Putkonen (Chef), Mikko Ritala (Chef), Miia Mäntymäki (Operatör), Marianna Kemell (Operatör), Marko Vehkamäki (Operatör) & Mikko Heikkilä (Operatör)
Avdelningen för kemi
Utrustning/facilitet: Forskningslaboratorium

Citera det här

@article{e9429d50fe5148798c054fecbafe9c13,

title = "Atomic layer deposition of CoF2, NiF2 and HoF3 thin films",

keywords = "Tif4, Precursor, 116 Chemical sciences",

author = "Elisa Atosuo and Miia M{\"a}ntym{\"a}ki and Leevi Pesonen and Kenichiro Mizohata and Timo Hatanp{\"a}{\"a} and Markku Leskel{\"a} and Mikko Ritala",

year = "2023",

month = aug,

day = "8",

doi = "10.1039/d3dt01717f",

language = "English",

volume = "52",

pages = "10844--10854",

journal = "Dalton Transactions",

issn = "1477-9226",

publisher = "Royal Society of Chemistry",

number = "31",

}

TY - JOUR

T1 - Atomic layer deposition of CoF2, NiF2 and HoF3 thin films

AU - Atosuo, Elisa

AU - Mäntymäki, Miia

AU - Pesonen, Leevi

AU - Mizohata, Kenichiro

AU - Hatanpää, Timo

AU - Leskelä, Markku

AU - Ritala, Mikko

PY - 2023/8/8

Y1 - 2023/8/8

KW - Tif4

KW - Precursor

KW - 116 Chemical sciences

U2 - 10.1039/d3dt01717f

DO - 10.1039/d3dt01717f

M3 - Article

C2 - 37486012

VL - 52

SP - 10844

EP - 10854

JO - Dalton Transactions

JF - Dalton Transactions

SN - 1477-9226

IS - 31

ER -

Atomic layer deposition of CoF2, NiF2 and HoF3 thin films

Vetenskapsgrenar

Åtkomst av dokument

Utrustning

HelsinkiALD

Citera det här

Atomic layer deposition of CoF₂, NiF₂ and HoF₃ thin films