Atomic Layer Deposition Processes of HfO2 Thin Films and Layered HfO2-Al2O3-Nb2O5 Dielectrics

    Forskningsoutput: Kapitel i bok/rapport/konferenshandlingKonferensbidragVetenskapligPeer review

    Originalspråkengelska
    Titel på gästpublikationConference Papers : 4th International Conference on Materials for Microelectronics and Nanoengineering
    Utgivningsdatum2002
    Sidor97-100
    StatusPublicerad - 2002
    MoE-publikationstypA4 Artikel i en konferenspublikation
    Evenemang4th International Conference on Materials for Microelectronics and Nanoengineering - Espoo, Finland
    Varaktighet: 1 jan 1800 → …
    Konferensnummer: 4

    Vetenskapsgrenar

    • 116 Kemi

    Citera det här