Deposition of Copper by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Using a Novel N-Heterocyclic Carbene Precursor

Jason P. Coyle, Gangotri Dey, Eric R. Sirianni, Marianna L. Kemell, Glenn P. A. Yap, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Simon D. Elliott, Sean T. Barry

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Originalspråkengelska
TidskriftChemistry of Materials
Volym25
Utgåva7
Sidor (från-till)1132-1138
Antal sidor7
ISSN0897-4756
DOI
StatusPublicerad - 9 apr 2013
MoE-publikationstypA1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi

Citera det här