Diamine Adduct of Cobalt(II) Chloride as a Precursor for Atomic Layer Deposition of Stoichiometric Cobalt(II) Oxide and Reduction Thereof to Cobalt Metal Thin Films

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Originalspråkengelska
TidskriftChemistry of Materials
Volym30
Utgåva10
Sidor (från-till)3499-3507
Antal sidor9
ISSN0897-4756
DOI
StatusPublicerad - 22 maj 2018
MoE-publikationstypA1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi
  • 114 Fysik
  • 221 Nanoteknologi

Citera det här