Highly Material Selective and Self-Aligned Photo-assisted Atomic Layer Deposition of Copper on Oxide Materials

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Originalspråkengelska
Artikelnummer2100014
TidskriftAdvanced Materials Interfaces
Volym8
Utgåva11
Antal sidor9
ISSN2196-7350
DOI
StatusPublicerad - 9 juni 2021
MoE-publikationstypA1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

  • 114 Fysik
  • 116 Kemi

Citera det här