Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Low-Resistivity Copper Thin Films Using Cu(dmap)(2) and Tertiary Butyl Hydrazine

Katja Väyrynen, Kenichiro Mizohata, Jyrki Räisänen, Daniel Peeters, Anjana Devi, Mikko Ritala, Markku Leskelä

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikelVetenskapligPeer review

Originalspråkengelska
TidskriftChemistry of Materials
Volym29
Utgåva15
Sidor (från-till)6502-6510
Antal sidor9
ISSN0897-4756
DOI
StatusPublicerad - 8 aug 2017
MoE-publikationstypA1 Tidskriftsartikel-refererad

Vetenskapsgrenar

  • 116 Kemi
  • 114 Fysik

Citera det här